5万年消えない最強温室効果ガスを粉砕！KAISTとサムスンが「無秩序の力」で半導体排ガスを克服

プラスチックごみや有害廃棄物ですら霞んでしまうほどの頑固な分子、それが四フッ化炭素（CF₄）です。最先端半導体のドライエッチングに不可欠なこの気体は、大気中での寿命がなんと5万年。前回この分子が空を漂っていた時代、ネアンデルタール人はまだ洞窟の壁に絵を描いていました。

さらに恐ろしいことに、CF₄の温室効果は二酸化炭素の6000倍以上。炭素とフッ素の結合は極めて強固で、熱分解しようとしても、従来の触媒は猛烈な高温に耐えきれず数時間で失活してしまいます。

配置エントロピーを極大化することで、雑多な金属原子同士が熱力学的に強固に固定されます：

• 分解性能が2.3倍に向上：従来の産業用触媒と比較して、CF₄の分解速度が2.3倍に跳ね上がりました。
• 800°Cの灼熱地獄でも生存：800°Cで150時間連続稼働させた後でも、92%の触媒活性を維持することに成功。
• 半導体工場の救世主：微細加工で大量のフッ素系ガスを消費する先端ファブにおいて、高耐久な排ガス処理手段を提供します。

KAISTとサムスンの革新により、半導体産業は5万年続く気候の亡霊を退治する最強のハンマーを手に入れました。